Oblea de silicio cuadrada avanzada para investigación y desarrollo de alta-tecnología
El diseño cuadrado mejora la flexibilidad del diseño y mejora la utilización del material, lo que lo hace especialmente valioso para laboratorios de I+D, universidades y centros de desarrollo de semiconductores que requieren rendimiento y rentabilidad. Con su calidad de superficie casi-perfecta y su precisión dimensional superior, esta oblea admite una amplia gama de procesos de microfabricación, desde fotolitografía y grabado con plasma hasta deposición de películas delgadas-y creación de dispositivos a nanoescala.
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Introducción del producto
El diseño cuadrado mejora la flexibilidad del diseño y mejora la utilización del material, lo que lo hace especialmente valioso para laboratorios de I+D, universidades y centros de desarrollo de semiconductores que requieren rendimiento y rentabilidad. Con su calidad de superficie casi-perfecta y su precisión dimensional superior, esta oblea admite una amplia gama de procesos de microfabricación, desde fotolitografía y grabado con plasma hasta deposición de películas delgadas-y creación de dispositivos a nanoescala.
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