Sustrato de disco de oblea de silicio

Sustrato de disco de oblea de silicio

Nuestros sustratos de discos de oblea de silicio de primera calidad están diseñados para proporcionar una base sólida y ultra{0}}estable para la fabricación avanzada de semiconductores. Cubriendo todos los diámetros estándar desde2 pulgadas (50 mm) a 12 pulgadas (300 mm), estos sustratos son la opción preferida para fundiciones e IDM centrados en la fabricación de dispositivos electrónicos de alto-rendimiento.

Ventajas técnicas principales:

Pureza de grado electrónico-:Proporcionamos silicio 100 % de grado semiconductor-(EG) con niveles de pureza-líderes en la industria, lo que garantiza una movilidad superior del operador y un rendimiento estable del dispositivo sin el riesgo de-contaminación cruzada.

Precisión de nivel de micrones-:Cada disco se procesa para cumplir con estrictas especificaciones de variación de espesor total (TTV) y deformación, lo que permite una fotolitografía de alta-precisión y una deposición compleja de múltiples-capas.

Uniformidad material excepcional:Garantizamos una resistividad y un contenido de oxígeno/carbono constantes en todo el material, lo que garantiza resultados repetibles en lotes de producción a gran-escala.

Confiabilidad estructural:Diseñados para mantener su integridad bajo tensión mecánica y recocido a temperaturas extremadamente altas-, nuestros sustratos están optimizados paraDispositivos de potencia (IGBT/MOSFET), microelectrónica RF y MEMS.

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