Capa fina de oblea de silicio

Capa fina de oblea de silicio

Ofrecemos una amplia gama de obleas de silicio semiconductor de alta-pureza, que cubren todos los diámetros estándar, desde2 pulgadas a 12 pulgadas (50 mm - 300 mm). Nuestra línea de productos está diseñada para satisfacer una amplia gama de necesidades de fabricación, desde investigación especializada y soporte para dispositivos heredados hasta fabricación de circuitos integrados (CI) de próxima-generación en gran-volumen.

Versatilidad de tamaño-completo:Ya sea que necesite obleas de pequeño-diámetro (2", 3", 4", 5", 6") para MEMS y dispositivos discretos, o sustratos de gran-escala (8", 12") para lógica y memoria avanzadas, ofrecemos calidad consistente de semiconductores-en todos los ámbitos.

Control preciso de capa fina-:Nuestras obleas presentan una uniformidad de espesor superior y una superficie plana de nivel atómico-, optimizadas específicamente para procesos de crecimiento epitaxial y CVD de alta-precisión.

Base de fabricación confiable:Diseñado para una máxima estabilidad térmica e integridad mecánica, lo que garantiza resultados de producción estables y una alta confiabilidad del dispositivo en condiciones extremas.

Enfoque de aplicación estricto:100% enfocado enaplicaciones de semiconductores de grado electrónico-(Dispositivos de Potencia, RF, IC, Sensores). Mantenemos una política estricta de cero contaminación cruzada-con materiales de calidad fotovoltaica-.

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